[实用新型]一种微纳PSS制备用软膜有效
| 申请号： | 201620141915.9 | 申请日： | 2016-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN205564800U | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 张伟;孙智江 | 申请（专利权）人： | 海迪科(南通)光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种微纳PSS制备用软膜，所述软膜包括一软膜主体，该软膜主体呈长方体状，在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组；所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成，在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层，且高反射金属层的两侧均设置有一延伸至凹槽侧壁的导角。本实用新型的优点在于：本实用新型中的软膜通过在相邻的梳齿所形成的凹槽的内壁增设高反射金属层，在进行曝光处理时，光在进过软膜时，部分光会被高反射金属层所阻挡，即可形成被曝光区域未曝光区，无需软膜与胶深入接触，提高了软膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pss 制备 用软膜 | ||
【主权项】：
一种微纳PSS制备用软膜，其特征在于：包括所述软膜包括一软膜主体，该软膜主体呈长方体状，在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组；所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成，在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层，且高反射金属层的两侧均设置有一延伸至凹槽侧壁的导角。
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