[实用新型]一种大宽幅柔性基材磁控溅射镀膜设备的靶材气路有效
| 申请号： | 201620089874.3 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN205576269U | 公开（公告）日： | 2016-09-14 |
| 发明（设计）人： | 邓恒涛;凌峰;李国增;杨洋;孔庆粤 | 申请（专利权）人： | 珠海兴业应用材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 519085 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，尤其是一种大宽幅在柔性基材上镀膜的磁控溅射设备的靶材气路。本实用新型提供了一种在大宽幅范围上让气体均匀分布的靶材气路。本实用新型包括MFC、气管、出气管、阳极框，其结构要点在于MFC连接气管，气管穿过真空腔壁与出气管相连，出气管与阳极框相连。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 宽幅 柔性 基材 磁控溅射 镀膜 设备 靶材气路 | ||
【主权项】：
一种大宽幅柔性基材磁控溅射镀膜设备的靶材气路，主要由MFC（1）、气管（2）、出气管（3）、阳极框（4）组成。气管将气瓶、MFC和出气管串联起来，出气管分布在靶材的两边，从左到右依次排列，阳极框安装在出气管的上方。
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