[实用新型]DMD投影光路垂直线阵的激光直写垂直双面曝光系统有效
申请号: | 201620060017.0 | 申请日: | 2016-01-22 |
公开(公告)号: | CN205539926U | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 马汝治;赵华;张伟;徐巍;王翰文 | 申请(专利权)人: | 江苏影速光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人: | 周爱芳 |
地址: | 221600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种DMD投影光路垂直线阵的激光直写垂直双面曝光系统,包括:垂直置于底座(4)上表面的DMD集成组件(2)以及PCB板件(3);所述DMD集成组件(2)为两套、垂直对称分布在PCB板件(3)两侧;其中,DMD集成组件(2)的Z轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路(1)对PCB板件(3)的A、B面同时进行垂直曝光;本实用新型通过在PCB板件两边垂直设置两套DMD器件投影光路能够同时曝光被曝光工件的正反两面,使得工作的效率提升一倍,更好的提高了产能,同时保证了产品的质量。 | ||
搜索关键词: | dmd 投影 垂直线 激光 垂直 双面 曝光 系统 | ||
【主权项】:
一种DMD投影光路垂直线阵的激光直写垂直双面曝光系统,其特征在于,包括:垂直置于底座(4)上表面的DMD集成组件(2)以及PCB板件(3);所述DMD集成组件(2)为两套、垂直对称分布在PCB板件(3)两侧;其中,DMD集成组件(2)的Z轴方向上交叉分布多个DMD器件投影光路(1)对PCB板件(3)的A、B面同时进行垂直曝光。
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