[发明专利]一种等离子体参数自动控制磁控溅射镀膜装置在审
| 申请号： | 201611267454.0 | 申请日： | 2016-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN106521447A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 滕海燕 | 申请（专利权）人： | 合肥优亿科机电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 | 代理人： | 娄岳,金凯 |
| 地址： | 230888 安徽省合肥市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体参数自动控制磁控溅射镀膜装置，本发明装置本体包括真空室、等离子体射频电源，真空室上设有用于穿过等离子体探针的动密封结构，等离子体探针的输出端与数据采集与处理系统的输入端连接，数据采集与处理系统的输出端与PC的输入端连接，PC的输出端与PLC的输入端连接，PLC的输出端与等离子体射频电源连接，本发明以等离子体探针系统作为等离子体参数监测手段，以PC和PLC作为运算单元，对磁控溅射镀膜过程中的参数进行控制，使得磁控溅射镀膜过程完全智能自动化，制得具有高品质的成膜产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 参数 自动控制 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体参数自动控制磁控溅射镀膜装置，包括装置本体，所述装置本体包括真空室以及与真空室连接的等离子体射频电源，其特征在于：所述真空室上设有用于穿过等离子体探针的动密封结构，所述等离子体探针的输出端与用于采集等离子体探针上电压和电流信号的数据采集与处理系统的输入端连接，数据采集与处理系统的输出端与PC的输入端连接，所述PC的输出端与PLC的输入端连接，所述PLC的输出端与所述等离子体射频电源连接。
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