[发明专利]具有原子氧防护性的抗辐照玻璃盖板薄膜及其制备方法

摘要

本发明提供具有原子氧防护性的抗辐照玻璃盖板薄膜及其制备方法，包括HfO₂膜层和SiO₂膜层两种膜层，HfO₂膜层折射率为1.93±0.02，SiO₂膜层的折射率为1.45±0.01，HfO₂膜层和SiO₂膜层共18层。该薄膜使用HfO₂和SiO₂材料为表面薄膜材料，不会因被高活性的原子氧氧化而变性，提升了表面薄膜的化学稳定性，且镀膜后盖片的透射率可达MgF₂薄膜水平，有利于提高太阳电池组件的工作效率。

主权项

1.具有原子氧防护性的抗辐照玻璃盖板薄膜，其特征在于：包括HfO₂膜层和SiO₂膜层两种膜层，所述HfO₂膜层折射率为1.93±0.02，所述SiO₂膜层的折射率为1.45±0.01，所述HfO₂膜层和所述SiO₂膜层共18层，材料及厚度依次为：第1膜层材料为HfO₂，厚度为10±1nm，第2膜层材料为SiO₂，厚度为66±4nm，第3膜层材料为HfO₂，厚度为15±1nm，第4膜层材料为SiO₂，厚度为72±4nm，第5膜层材料为HfO₂，厚度为22±2nm，第6膜层材料为SiO₂，厚度为63±4nm，第7膜层材料为HfO₂，厚度为30±2nm，第8膜层材料为SiO₂，厚度为50±3nm，第9膜层材料为HfO₂，厚度为43±3nm，第10膜层材料为SiO₂，厚度为35±2nm，第11膜层材料为HfO₂，厚度为53±3nm，第12膜层材料为SiO₂，厚度为33±2nm，第13膜层材料为HfO₂，厚度为49±3nm，第14膜层材料为SiO₂，厚度为39±2nm，第15膜层材料为HfO₂，厚度为39±2nm，第16膜层材料为SiO₂，厚度为53±3nm，第17膜层材料为HfO₂，厚度为21±2nm，第18膜层材料为SiO₂，厚度为125±7nm。