[发明专利]预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法与系统有效

专利信息
申请号: 201611184989.1 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN106777704B 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 陈爱新;张梦;张哲 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王庆龙
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法与系统。所述方法包括S1,利用电磁波一致性几何绕射方法分解天线总场,获得绕射场和所述介质产生的表面波场,并获取所述介质的电磁波反射特性;S2,基于所述绕射场、所述表面波场及所述介质的电磁波反射特性,利用天线端口网络模型获取二端口间的电磁波散射系数,以预测所述介质涂敷目标上天线间的电磁耦合度。本发明针对涂覆介质目标上的天线的电磁耦合路径进行分析,对天线的总场进行合理分解,利用天线端口网络模型对绕射场和表面波场下的电磁耦合度进行定性分析及定量表示,用于预测介质涂敷目标上天线间的电磁干扰程度。
搜索关键词: 预测 介质 目标 天线 电磁 耦合度 方法 系统
【主权项】:
预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法,其特征在于,包括:S1,利用电磁波一致性几何绕射方法分解天线总场,获得绕射场和所述介质产生的表面波场,并获取所述介质的电磁波反射特性;S2,基于所述绕射场、所述表面波场及所述介质的电磁波反射特性,利用天线端口网络模型获取二端口间的电磁波散射系数,以预测所述介质涂敷目标上天线间的电磁耦合度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611184989.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top