[发明专利]预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法与系统有效
申请号: | 201611184989.1 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN106777704B | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
发明(设计)人: | 陈爱新;张梦;张哲 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王庆龙 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法与系统。所述方法包括S1,利用电磁波一致性几何绕射方法分解天线总场,获得绕射场和所述介质产生的表面波场,并获取所述介质的电磁波反射特性;S2,基于所述绕射场、所述表面波场及所述介质的电磁波反射特性,利用天线端口网络模型获取二端口间的电磁波散射系数,以预测所述介质涂敷目标上天线间的电磁耦合度。本发明针对涂覆介质目标上的天线的电磁耦合路径进行分析,对天线的总场进行合理分解,利用天线端口网络模型对绕射场和表面波场下的电磁耦合度进行定性分析及定量表示,用于预测介质涂敷目标上天线间的电磁干扰程度。 | ||
搜索关键词: | 预测 介质 目标 天线 电磁 耦合度 方法 系统 | ||
【主权项】:
预测介质涂敷目标上天线间电磁耦合度的方法,其特征在于,包括:S1,利用电磁波一致性几何绕射方法分解天线总场,获得绕射场和所述介质产生的表面波场,并获取所述介质的电磁波反射特性;S2,基于所述绕射场、所述表面波场及所述介质的电磁波反射特性,利用天线端口网络模型获取二端口间的电磁波散射系数,以预测所述介质涂敷目标上天线间的电磁耦合度。
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