[发明专利]一种基于混沌理论的自适应艺术图案生成方法有效
| 申请号： | 201611176378.2 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN106815799B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 龚新明;林翔宇;张华熊;胡洁 | 申请（专利权）人： | 浙江画之都文化创意股份有限公司;浙江理工大学 |
| 主分类号： | G06T1/00 | 分类号： | G06T1/00;G06T5/50 |
| 代理公司： | 33109 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人： | 尉伟敏;卢金元 |
| 地址： | 322000 浙江省金华*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于混沌理论的自适应艺术图案生成方法，其包括以下步骤：(1)自适应选择非线性函数生成无参考随机的单体图案；(2)基于混沌理论，将若干个单体图案通过函数叠加法合成单层图案；(3)将若干幅单层图案通过仿三维叠加，生成最终图案。本发明选用多种数学模型，生成的图案内容丰富，种类繁多，后续可扩展性好。本方案适用于图片素材库的建立等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 混沌 理论 自适应 艺术 图案 生成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于混沌理论的自适应艺术图案生成方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)自适应选择非线性函数生成无参考随机的单体图案；/n(2)基于混沌理论，将若干个单体图案通过函数叠加法合成单层图案；/n步骤(2)具体为：/nS21、用Sobel算子计算每个单体图案的边缘像素点个数，评估该图案的纹理复杂度，边缘像素点越多则纹理复杂度越高；/nS22、将纹理复杂度最高的单体图案置于底层，生成第一幅二维图案z
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