[发明专利]一种硅胶制成品模内转印平面或弧面一体成型工艺

摘要

本发明属于硅胶制成品模内转印成型技术领域，特别是一种硅胶制成品模内转印平面或弧面一体成型工艺，包括如下步骤采用环保处理剂A对PET背面涂，涂布烘烤，采用环保处理剂B对PET正面涂，涂布烘烤，采用环保处理剂B对PET正面涂，涂布烘烤，利用印刷机进行彩印印刷图案，印刷环保胶水A，并进行烘烤，印刷环保胶水B，并进行烘烤，机械打定位孔，硅胶油压成型，硫化，质量检测；用于硅胶模压成型时把图案转印到硅胶制品上，出模时图案就在制品上，图案不变形，清晰度高，耐磨好。大大提高生产效率，缩短生产周期，节约了生产成本。

主权项

一种硅胶制成品模内转印平面或弧面一体成型工艺，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1：采用环保处理剂A对PET背面涂，步骤S2：涂布烘烤，步骤S3:采用环保处理剂B对PET正面涂，步骤S4:涂布烘烤，步骤S5:采用环保处理剂B对PET正面涂，步骤S6:涂布烘烤，步骤S7:利用印刷机进行彩印印刷图案，步骤S8:印刷环保胶水A，并进行烘烤，步骤S9:印刷环保胶水B，并进行烘烤，步骤S10：机械打定位孔，步骤S11：硅胶油压成型，步骤S12：硫化，步骤S13:质量检测；在步骤S1中，PET背面涂的涂层厚度为1.5μm～2.5μm，在步骤S2中，烘烤时涂布的速度是50m/min，涂布烘烤温度115℃～125℃/15min,在步骤S3中，PET正面涂的涂层厚度为1.5μm～2.5μm，在步骤S4中，烘烤时涂布的速度是50m/min，涂布烘烤温度115℃～125℃/15min,在步骤S5中，利用环保硅胶连续2次加工涂层，保证图案的耐磨性，涂层厚度3.5μm～4.5μm，在步骤S6中，烘烤时涂布的速度是30m/min，涂布烘烤温度115℃～125℃/15min,在步骤S8中，烘烤条件是115℃～125℃/20min，在步骤S9中，烘烤条件是115℃～125℃/20min，在步骤S11中，硅胶油压成型的方法是，按常规生产排胶料到模具上，把做好的PET膜对位放到硅胶模具定位上，合模硫化，硫化条件，温度175℃～215℃度/80S～150S，压力为120～180kg。