[发明专利]一种露地西瓜优质高产高效栽培技术在审

专利信息
申请号: 201611169126.7 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN106717925A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 赵廷超 申请(专利权)人: 重庆珞优农业科技有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;C05G3/02
代理公司: 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548 代理人: 黄玉珏
地址: 402260 重庆市江*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 一种露地西瓜优质高产高效栽培技术,其特殊之处包括品种选择、种子处理、营养土配制、播种、苗期管理、移栽定植、田间管理工艺过程。它解决了目前西瓜传统露天栽培模式中西瓜上市晚、病虫害发生严重、产量和效益较低的问题,西瓜上市时间提前1个多月,提高了经济效益,适用于胶东地区瓜农露天栽培西瓜使用。
搜索关键词: 一种 西瓜 优质 高产 高效 栽培技术
【主权项】:
一种露地西瓜优质高产高效栽培技术,其特征是包括以下过程:品种选择:选择肉质甜脆,香味浓郁,品质佳市场好的薄皮系列品种,种子处理:播前晒种一天,将晒好的种子用55~60℃的热水浸泡10~15min,不断搅拌至30℃,再浸泡3~4h,使种子慢慢吸水,水中放入1000倍的福尔马林搅拌4~5次,将用药浸过的种子,用清水洗净搓掉种皮黏液后,用湿布包好,放在30℃环境下催芽,中间过滤2~3次,一般12h左右,见种子则要露嘴即可;营养土配制:取肥沃无菌田土50%,沼渣40%、细沙10%,混合均匀过筛,为防止苗期病虫害每立方米可加入50%多菌灵可湿粉剂200g,50%辛硫磷乳油1000倍喷拌于营养土中,堆闷灭菌灭虫,然后装入营养钵,然后放入育苗畦中,浇水增温准备播种;播种:一般在11月中下旬播种选择晴天上午,将营养钵均匀摆放在苗床内,用喷壶逐个浇透水,待水渗后播种,在每个钵内平放1~2粒种子;随播种随在种子上均匀覆盖0.5~1cm厚过筛营养土,全部播完后在营养钵上覆盖一层地膜保温保湿,苗床上再扣小拱棚,出苗前不通风,80%以上种子拱土时揭掉地膜;苗期管理:白天温度保持在28~32℃,夜间温度20~18℃,夜间不低于13℃;幼苗出齐后白天温度保持在20~26℃,夜间温度18~15℃,不能低于10℃;真叶长出后白天温度保持在22~30℃,夜间温度16~13℃;移栽前炼苗白天温度保持在18~25℃,夜间温度15~10℃,使苗逐渐适应定植棚室环境;移栽定植:选择背风向阳土壤肥沃排水良好的壤土,在冬季来临前搭好支架,扣上最外一层膜,从内到外三层并进行深翻整地施足底肥,一般结合深翻亩施腐熟的有机肥5000~10000kg,硫酸钾型的三元复合肥80~100kg,将土壤与肥料耙平混合后,温室按100cm的行距起垄,垄台高20cm,整垄后铺一层地膜,作垄后,在棚内烟棚柱拉线,在线与棚之间吊一层薄膜,这层膜可提高棚温4~6℃,同时防止冷空气的侵入;到12中下旬在地膜上打孔洞、将苗坨放入定植穴内,用喷壶浇水,待水渗透后用土封坨,土坨与垄面持平,定植时可适当密植,单行定植,株距22~26cm,每亩一般在2500~3000株;田间管理:定植到缓苗,白天温度30~35℃,夜间温度不低于15℃;5~7d一般不放风;缓苗后到瓜定个前,白天温度25~30℃,夜间温度不低于12℃;瓜定个到成熟白天温度25~35℃,夜间保持在12℃以上;定植后7~10d浇一次缓苗水,缓苗后一直到开花,在第一茬瓜坐定后,长到鸡蛋大小时浇1~2次小水,随水追肥一般亩施硫酸钾型复合肥30kg,当瓜停止膨大时,要浇一次大水,以后直到第一茬瓜成熟,停止浇水;采取主蔓单干吊蔓整枝法,植株5~7叶时将主蔓吊好,原则上一叶一蔓一瓜,整个植株一般留瓜8~10个左右,为防落花落瓜,开花前可用0.1%的吡效隆激素喷花,喷花的同时边摘侧蔓;甜瓜白粉病用15%的三唑酮可湿性粉剂2000倍液喷雾防治;细菌性角斑病用72%农用链霉素5000倍液防治;蚜虫用10%吡虫啉粉剂2000倍液防治;白粉虱用黄板诱杀防治。授粉:6节以下的子蔓已从根部去除,待主蔓第6节以上所留子蔓开始现蕾后,于授粉前一天下午,选择所有子蔓上大蕾期和雏蕾期雌花数量总和在4个以上的母本植株,对大蕾期的花进行剥花去雄并套袋,第二天再对雏蕾期的雌花进行剥花去雄,到授粉当天,所选母本株上选择去雄的雌花相继进入花期和大蕾期,然后同时进行授粉。
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