[发明专利]平面研磨机有效
| 申请号： | 201611154846.6 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108214282B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 邱瑛杰;邱育诚 | 申请（专利权）人： | 邱瑛杰;邱育诚 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 中国台湾台南市安*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面研磨机，该研磨机包括：一基座；一第一旋转单元，设置在该基座上，该第一旋转单元有一转轴；一下定位盘，连接该转轴；一超音波单元，连接该下定位盘,该超音波单元使该下定位盘上下震荡；一第二旋转单元，设置在该基座上；一上定位盘，连接该第二旋转单元，该上定位盘可移动至对应该下定位盘。将待研磨物件进行研磨时，借由该超音波单元控制该下定位盘震荡，使该待研磨物件整体随之震荡，可提高该待研磨物件的研磨速度，且因为是该待研磨物件整体震荡，因而不影响其研磨后的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 研磨机 | ||
【主权项】：
1.一种平面研磨机，其特征在于，包括：一基座；一第一旋转单元，设置在该基座上，该第一旋转单元有一转轴；一下定位盘，连接该转轴；一超音波单元，连接该下定位盘；一第二旋转单元，设置在该基座上；一上定位盘，连接该第二旋转单元，该上定位盘可移动至对应该下定位盘。
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