[发明专利]提高绿光或更长波长InGaN量子阱发光效率的方法及结构有效

专利信息
申请号: 201611153017.6 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN106784181B 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 田爱琴;刘建平;张书明;李德尧;张立群;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/20;H01L33/24;H01L33/32;H01S5/343;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种提高绿光或更长波长InGaN量子阱发光效率的方法及结构。所述方法包括以下步骤:采用一具有原子台阶的衬底,所述衬底上相邻原子台阶形成的斜切角大于0.2°;在原子台阶面上形成缓冲层;在缓冲层上形成高温n型GaN层;在高温n型GaN层上形成InGaN量子阱。本发明的采用大斜切角衬底提高InGaN量子阱发光效率的方法采用斜切角大于0.2°的衬底生长绿光或更长波长InGaN量子阱有源区,可以实现绿光或更长波长InGaN量子阱的原子台阶流生长,改善其形貌,并提高InGaN量子阱的内量子效率。此外,由上述方法制备得到的InGaN量子阱既可以广泛应用于GaN基绿光或更长波长LED、GaN基绿光或更长波长激光器中,也可以广泛应用于多量子阱太阳能电池中。
搜索关键词: 提高 更长 波长 ingan 量子 发光 效率 方法 结构
【主权项】:
一种提高绿光或更长波长InGaN量子阱发光效率的方法,其特征在于,包括:采用一具有原子台阶的衬底,所述衬底上相邻原子台阶形成的斜切角大于0.2°;在所述原子台阶面上形成缓冲层;在所述缓冲层上形成高温n型GaN层;在所述高温n型GaN层上形成InGaN量子阱。
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