[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

摘要

提供一种曝光装置，使用相移掩模曝光基板，相移掩模包含在基准波长下使透射光的相位相互不同的第1区域及第2区域，曝光装置的特征在于包括第1变更部，变更照明所述相移掩模的光的照明波长；投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板；第2变更部，变更所述投影光学系统的球面像差；控制部，根据利用所述第1变更部变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长及所述基准波长，控制基于所述第2变更部的所述球面像差的变更，在变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长下，照明所述相移掩模，使用具有根据所述照明波长及所述基准波长变更的所述球面像差的所述投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板。

主权项

1.一种曝光装置，使用相移掩模对基板进行曝光，该相移掩模包含在基准波长下使透射光的相位相互不同的第1区域以及第2区域，所述曝光装置的特征在于，包括：第1变更部，变更对所述相移掩模进行照明的光的照明波长；投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板；第2变更部，变更所述投影光学系统的球面像差；以及控制部，根据利用所述第1变更部变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长及所述基准波长，控制利用所述第2变更部进行的所述球面像差的变更，在变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长下，对所述相移掩模进行照明，使用具有根据所述照明波长及所述基准波长变更了的所述球面像差的所述投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板。