[发明专利]掩膜框架及制造方法和掩膜板有效
| 申请号： | 201611138902.7 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN106702318B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 林治明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜框架，包括主框架和多个遮挡条，主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架的蒸镀区，主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽分别位于蒸镀区第一方向的两侧，每个遮挡条对应一对第一容纳槽，遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对第一定位孔对应一对第一容纳槽，且同一对第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽位置对应。本发明还提供一种掩膜板。由于遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。 | ||
| 搜索关键词： | 容纳槽 遮挡条 掩膜 定位孔 主框架 掩膜条 蒸镀 焊接 边缘部 掩膜板 偏量 遮挡 贯穿 制造 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。
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