[发明专利]利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法有效
| 申请号： | 201611133619.5 | 申请日： | 2016-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN106756863B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 才玺坤;武潇野;时光;张立超;隋永新;杨怀江 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径元件进行镀膜；静置第二预设时间后，利用斐索干涉仪再次对镀膜后的大口径元件进行面形测量，并标记为测试面形W2；利用公式ΔW＝W2‑W1得到镀膜引起的元件面形改变量ΔW；利用面形改变量ΔW对膜厚修正挡板进行优化。本发明利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性，通过镀膜前后分别测量大口径元件的表面面形，将元件两次面形数据相减得到镀膜引起的面形改变量，精确反映了元件的膜厚均匀性水平。 | ||
| 搜索关键词： | 大口径元件 斐索干涉仪 镀膜 膜厚均匀性 面形 改变量 面形测量 预设 检测 预处理 挡板 表面面形 残余应力 面形数据 元件面形 膜厚 相减 测量 修正 测试 优化 | ||
【主权项】：
1.一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，其特征在于：包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径元件进行镀膜；静置第二预设时间后，利用斐索干涉仪再次对镀膜后的大口径元件进行面形测量，并标记为测试面形W2；利用公式ΔW＝W2‑W1得到镀膜引起的元件面形改变量ΔW；利用面形改变量ΔW对膜厚修正挡板进行优化。
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