[发明专利]鳍式场效应晶体管器件在审

专利信息
申请号: 201611110670.4 申请日: 2016-12-06
公开(公告)号: CN107039434A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 张哲诚;林志翰;曾鸿辉 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L21/8238
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 揭露鳍式场效应晶体管器件及其形成方法。一种鳍式场效应晶体管器件包括具有至少一个鳍片的衬底、第一栅堆叠以及第二栅堆叠、第一应变层以及第二应变层、遮蔽层、第一连接件以及第二连接件。第一栅堆叠以及第二栅堆叠横跨至少一个鳍片。第一应变层以及第二应变层分别在第一栅堆叠以及第二栅堆叠侧边。遮蔽层在第二栅堆叠上方以及在第一栅堆叠的顶表面及侧壁上方,且在第一栅堆叠的顶角周围不连续。第一连接件通过遮蔽层且电连接到第一应变层。第二连接件通过遮蔽层且电连接到第二应变层。此外,第二连接件的宽度大于第一连接件的宽度。
搜索关键词: 场效应 晶体管 器件
【主权项】:
一种鳍式场效应晶体管器件,其特征在于包括:具有至少一个鳍片的衬底;第一栅堆叠以及第二栅堆叠,横跨所述至少一个鳍片;第一应变层,在所述第一栅堆叠侧边;第二应变层,在所述第二栅堆叠侧边;遮蔽层,在所述第二栅堆叠上方以及在所述第一栅堆叠的顶表面及侧壁上方,且在所述第一栅堆叠的顶角周围不连续;第一连接件,通过所述遮蔽层且电连接到所述第一应变层;以及第二连接件,通过所述遮蔽层且电连接到所述第二应变层,其中所述第二连接件的宽度大于所述第一连接件的宽度。
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