[发明专利]一种非离子表面活性剂改性蒙脱石及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611102265.8 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN106587086A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 郑水林;王高锋;王珊 申请(专利权)人: 中国矿业大学(北京)
主分类号: C01B33/44 分类号: C01B33/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种非离子表面活性剂改性蒙脱石及其制备方法。该方法以蒙脱石为原料,非离子表面活性剂为改性剂,利用蒙脱石表面的硅氧烷(Si‑O)作为反应位点,通过氢键结合的方式将非离子表面活性剂插入蒙脱石层间,得到非离子表面活性剂改性蒙脱石。本发明借助超声分散技术辅助蒙脱石水化及改性剂插层过程,实现了非离子表面活性剂对蒙脱石的插层改性。制得的非离子表面活性剂改性蒙脱石,不但保有天然蒙脱石的阳离子交换性,而且具有较高的有机碳含量和内部层间距,在废水深度处理领域具有较大的潜在应用价值。
搜索关键词: 一种 离子 表面活性剂 改性 蒙脱石 及其 制备 方法
【主权项】:
一种非离子表面活性剂改性蒙脱石,其特征在于,蒙脱石的比表面积介于60~300m2/g之间;改性剂为非离子表面活性剂辛基酚聚氧乙烯醚(OP‑10)、脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO‑9)、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯(Tween20)中的一种或至少两种。
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