[发明专利]一种全方位宽带减反膜的制备方法

摘要

本发明属于光学薄膜材料领域，具体涉及一种全方位宽带减反膜的制备方法。该方法用溶胶‑凝胶法浸渍提拉法镀膜，在玻璃表面依次镀上以聚丙烯酸为模板且壁厚不等的五层50nm的SiO₂球薄膜，每一层薄膜由100℃恒温烘箱恒温2h进行稳定，在玻璃表面形成SiO₂粒子壁厚逐渐减小的膜层，高温焙烧去除模板剂，得到在350‑1600nm具有全方位减反射的宽带减反膜。

主权项

1.一种全方位宽带减反膜的制备方法，其特征在于：所述的制备方法为，采用溶胶‑凝胶法，以正硅酸四乙酯为硅源、无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂，制备得到实心SiO₂粒子溶胶；以正硅酸四乙酯为原料、聚丙烯酸为模板剂、无水乙醇为溶剂、氨水为催化剂，制备得到粒子大小均一、以聚丙烯酸为模板且壁厚不等的各种SiO₂粒子溶胶；以无水乙醇、H₂O、质量浓度为37％的浓盐酸，正硅酸乙酯，制备得到粘合剂SiO₂溶胶；将上述所得溶胶分类混合后，通过浸渍‑提拉法层层镀膜并高温固化，最后焙烧脱除模板剂；具体制备方法为：(1)将所述的粘合剂SiO₂溶胶和所述的实心SiO₂粒子溶胶混合均匀，得到底层薄膜的镀膜溶胶；(2)将所述的粒子大小均一、以聚丙烯酸为模板且壁厚不等的各种SiO₂粒子溶胶分别与所述的粘合剂SiO₂溶胶混合均匀，得到各种上层薄膜的镀膜溶胶；(3)在基片表面利用提拉法先镀制一层步骤(1)中得到的底层薄膜的镀膜溶胶，烘干固化后再于其上按照SiO₂粒子壁厚逐渐减小的顺序，利用提拉法逐层镀制步骤(2)中得到的上层薄膜的镀膜溶胶并逐一烘干固化，最后通过高温焙烧脱除模板剂，得到全方位宽带减反膜。