[发明专利]线扫描表面形貌测量装置有效
| 申请号： | 201611054926.4 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN108106561B | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 王福亮;王晓庆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种线扫描表面形貌测量装置，包括光探测器阵列；照明光组件，用以产生照明光；投影组件，用以被所述照明光组件照射，将透过的光投射至运动台上的待测组件，从而使得透过的光经待测工件反射；双折射位移棱镜，用以通过探测镜组接收所述待测组件反射而来的光，进而通过折射分别形成寻常光和非常光；参考图形，用以使得寻常光和非常光均成像于参考图像所在平面，从而形成寻常光斑和非常光斑；光探测器阵列，用以探测透过所述参考图形的寻常光和非常光；所述待测对象上各被测点的高度通过所探测到的寻常光和非常光的信号确定。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 表面 形貌 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种线扫描表面形貌测量装置，其特征在于：包括光探测器阵列；照明光组件，用以产生照明光；投影组件，用以被所述照明光组件照射，将透过的光投射至运动台上的待测组件，从而使得透过的光经待测工件反射；双折射位移棱镜，用以通过探测镜组接收所述待测组件反射而来的光，进而通过折射分别形成寻常光和非常光；参考图形，用以使得寻常光和非常光均成像于参考图像所在平面，从而形成寻常光斑和非常光斑；光探测器阵列，用以探测透过所述参考图形的寻常光和非常光；所述待测对象上各被测点的高度通过所探测到的寻常光和非常光的信号确定。
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