[发明专利]一种薄膜图形化方法有效
| 申请号： | 201610979758.3 | 申请日： | 2016-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN106646938B | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 陈永胜 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;H01L21/78 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜图形化方法，其包括：提供一基板，基板包括薄膜堆积区域以及非薄膜堆积区域；在非薄膜堆积区域上形成一可剥胶层；对可剥胶层进行固化处理；在可剥胶层以及薄膜堆积区域上形成一薄膜；去除可剥胶层以及位于可剥胶层上的薄膜。本发明的薄膜图形化方法，采用可剥胶代替金属掩膜板，在非薄膜沉积区域上先形成可剥胶，再进行薄膜沉积，最后去除可剥胶，形成图形化薄膜，使得整个图形化步骤不会影响后续的制程，并且使用可剥胶代替金属掩膜板，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 胶层 薄膜堆积 薄膜图形 金属掩膜板 薄膜沉积 基板 去除 薄膜 图形化薄膜 图形化步骤 固化处理 制程 生产成本 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜图形化方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板包括薄膜堆积区域以及非薄膜堆积区域；在所述非薄膜堆积区域上形成一可剥胶层；对所述可剥胶层进行固化处理；在所述可剥胶层以及所述薄膜堆积区域上形成一薄膜；去除所述可剥胶层以及位于所述可剥胶层上的所述薄膜，以形成图形化薄膜；所述在所述非薄膜堆积区域上形成一可剥胶层的步骤，包括：在所述薄膜堆积区域上贴合掩膜板；在所述非薄膜堆积区域上形成一所述可剥胶层；移除所述掩膜板，并将所述掩膜板上粘贴的所述可剥胶层清除。
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