[发明专利]彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示装置在审
| 申请号： | 201610971301.8 | 申请日： | 2016-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN106405923A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 万冀豫;汪栋;姜晶晶;杨同华;冯贺 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示装置，属于显示技术领域。所述方法包括在形成有遮光图案和第一色阻图案的衬底基板上形成第二色阻层；对第二色阻层同时进行加压加热处理，以对第二色阻层进行活化并降低第二色阻层的粘度以及溶剂含量；在第二色阻层冷却后，在第二色阻层上形成第二色阻图案，第二色阻图案包括形成于每个像素区域的第二子像素区域中的第二色阻。本发明通过对第二色阻层同时进行加压加热处理，降低了第二色阻层的粘度使第二色阻层上不会出现较大的凹陷，解决了相关技术中形成的色阻图案存在较大的斜面的问题。达到了色阻图案不会存在较大斜面，色阻图案的显示效果较好的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，用于制造包括至少两个色阻图案的彩膜基板，所述方法包括：在形成有遮光图案和第一色阻图案的衬底基板上形成第二色阻层，所述遮光图案包括多个像素区域，每个所述像素区域包括多个子像素区域，所述第一色阻图案包括形成于每个像素区域的第一子像素区域中的第一色阻；对所述第二色阻层同时进行加压加热处理，以对所述第二色阻层进行活化并降低所述第二色阻层的粘度以及溶剂含量；在所述第二色阻层冷却后，在所述第二色阻层上形成第二色阻图案，所述第二色阻图案包括形成于每个像素区域的第二子像素区域中的第二色阻。
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