[发明专利]西瓜温室种植方法在审
申请号: | 201610911705.8 | 申请日: | 2016-10-20 |
公开(公告)号: | CN106416724A | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 于海龙 | 申请(专利权)人: | 大连馨悦农业开发有限公司 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 大连科技专利代理有限责任公司21119 | 代理人: | 龙锋 |
地址: | 116419 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明提供了一种西瓜温室种植方法,包括(1)种植环境准备;(2)移栽定植;(3)定植后温湿度控制;(4)整枝绑蔓;(5)人工授粉;(6)选瓜吊瓜;(7)追肥灌水;(8)病虫害防治。本发明的西瓜温室种植方法,通过对温室温度、适度等控制、土壤酸度调节等,使环境满足木瓜生长需求,并且保证了产量和质量。成本投入较低、果实上市快、便于管理、经济效益较高。 | ||
搜索关键词: | 西瓜 温室 种植 方法 | ||
【主权项】:
西瓜温室种植方法,其特征在于:包括:(1)大棚内温度控制在20‑30℃,的作畦方式采用小高垄和高畦,按行距l-1.2米作畦;亩施有机肥3000-4000千克、过磷酸钙50千克、硫酸钾10-25千克;(2)移栽定植,先在扣膜的畦面按株距划出定植穴位,向穴内浇适量底水,待水刚渗下时即栽苗;(3)定植后,白天相对湿度一般在60%一70%,夜间达80%一90%,生长中后期,以保持相对湿度在60-70%; 架顶叶片距棚顶薄膜有30‑40厘米的距离,在绑蔓时,要注意使叶片层间有20—30厘米的间距,防止相互重叠; (4)整枝绑蔓,当伸蔓后,当侧蔓长到15‑25厘米时,从中选留一壮健侧蔓,其余全部去掉,以后主、侧蔓上长出的侧蔓顾时摘除;在坐瓜节位上边再留10-15片叶即可打顶;在定植后20多天,主蔓长25‑35厘米,去掉大棚内小拱棚后,立即进行插架;(5)人工授粉,从第二雌花开始授粉,以便留瓜;(6)选瓜吊瓜,授粉后3-5天,瓜胎即明显长大,要优先在主蔓上留瓜;主蔓上留示住,可在侧蔓上留瓜在支,支架栽培情况下,当瓜长到如碗口大得约0.5千克时,进行吊瓜; (7)追肥灌水,在伸蔓期,插支架前,灌1‑2次水,进入膨瓜期,可3-4天浇一次水,可在支架前,在瓜垄两侧开浅沟施用氮磷钾复合肥20‑40千克/亩,施洒腐质有机肥每亩3‑10千克,幼瓜坐住后,长至鸡蛋大小时,再亩施复合肥20千克,促进长瓜;果实定个后,可用0.3%的磷酸二氢钾叶面追肥l‑2次,在采收二茬瓜情况下,可在二茬瓜坐住,头茬瓜采收后再追施三元复合肥15千克/亩;(8)病虫害防治及其他管理,大棚西瓜生长期主要害虫为蚜虫,为防治蚜虫,可在定植前于苗床先喷DDV+乐果(1:1)2000倍液。
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