[发明专利]AlInGaN基紫外LED外延结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201610898680.2 申请日: 2016-10-17
公开(公告)号: CN106299047A 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 陈立人;陈伟;刘恒山 申请(专利权)人: 聚灿光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/22
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)32235 代理人: 邹俊煊
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种AlInGaN基紫外LED外延结构及其制造方法,LED外延结构依次包括:衬底;高温u‑AlGaN层;位于高温u‑AlGaN层上的高温n‑AlGaN层;位于高温n‑AlGaN层上的n‑AlGaN粗化层;位于n‑AlGaN粗化层上的低温AlInGaN/AlGaN超晶格层,低温AlInGaN/AlGaN超晶格层包括层叠设置的低温AlInGaN层和低温AlGaN层;位于低温AlInGaN/AlGaN超晶格层上的高温p‑AlGaN电子阻挡层;位于高温p‑AlGaN电子阻挡层上的高温p‑AlGaN披覆层;位于高温p‑AlGaN披覆层上的高温p‑GaN接触层;其中,衬底与高温u‑AlGaN层之间设置SiO2图形化掩模和缓冲层。本发明采用n型AlGaN粗化层,后续外延层延续此粗化表面生长,从而打断连续的二维平面生长,使发光区所产生的光得以从侧面输出,避免光于平面内多次反射最终被吸收损耗。
搜索关键词: alingan 紫外 led 外延 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种AlInGaN基紫外LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构依次包括:衬底;高温u‑AlGaN层;位于所述高温u‑AlGaN层上的高温n‑AlGaN层;位于所述高温n‑AlGaN层上的n‑AlGaN粗化层;位于所述n‑AlGaN粗化层上的低温AlInGaN/AlGaN超晶格层,所述低温AlInGaN/AlGaN超晶格层包括层叠设置的低温AlInGaN层和低温AlGaN层;位于所述低温AlInGaN/AlGaN超晶格层上的高温p‑AlGaN电子阻挡层;位于所述高温p‑AlGaN电子阻挡层上的高温p‑AlGaN披覆层;位于所述高温p‑AlGaN披覆层上的高温p‑GaN接触层;其中,所述衬底与高温u‑AlGaN层之间设置SiO2图形化掩模和缓冲层。
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