[发明专利]AlInGaN基紫外LED外延结构及其制造方法在审
申请号: | 201610898680.2 | 申请日: | 2016-10-17 |
公开(公告)号: | CN106299047A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 陈立人;陈伟;刘恒山 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/22 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)32235 | 代理人: | 邹俊煊 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种AlInGaN基紫外LED外延结构及其制造方法,LED外延结构依次包括:衬底;高温u‑AlGaN层;位于高温u‑AlGaN层上的高温n‑AlGaN层;位于高温n‑AlGaN层上的n‑AlGaN粗化层;位于n‑AlGaN粗化层上的低温AlInGaN/AlGaN超晶格层,低温AlInGaN/AlGaN超晶格层包括层叠设置的低温AlInGaN层和低温AlGaN层;位于低温AlInGaN/AlGaN超晶格层上的高温p‑AlGaN电子阻挡层;位于高温p‑AlGaN电子阻挡层上的高温p‑AlGaN披覆层;位于高温p‑AlGaN披覆层上的高温p‑GaN接触层;其中,衬底与高温u‑AlGaN层之间设置SiO2图形化掩模和缓冲层。本发明采用n型AlGaN粗化层,后续外延层延续此粗化表面生长,从而打断连续的二维平面生长,使发光区所产生的光得以从侧面输出,避免光于平面内多次反射最终被吸收损耗。 | ||
搜索关键词: | alingan 紫外 led 外延 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种AlInGaN基紫外LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构依次包括:衬底;高温u‑AlGaN层;位于所述高温u‑AlGaN层上的高温n‑AlGaN层;位于所述高温n‑AlGaN层上的n‑AlGaN粗化层;位于所述n‑AlGaN粗化层上的低温AlInGaN/AlGaN超晶格层,所述低温AlInGaN/AlGaN超晶格层包括层叠设置的低温AlInGaN层和低温AlGaN层;位于所述低温AlInGaN/AlGaN超晶格层上的高温p‑AlGaN电子阻挡层;位于所述高温p‑AlGaN电子阻挡层上的高温p‑AlGaN披覆层;位于所述高温p‑AlGaN披覆层上的高温p‑GaN接触层;其中,所述衬底与高温u‑AlGaN层之间设置SiO2图形化掩模和缓冲层。
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