[发明专利]一种复杂腔体内部散射特性的计算方法在审
| 申请号： | 201610895166.3 | 申请日： | 2016-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN106649197A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 高伟;蔡昆;张元;林云 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G06F17/12 | 分类号： | G06F17/12 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 | 代理人： | 朱成之,苗绘 |
| 地址： | 200090 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种复杂腔体内部散射特性的计算方法，该计算方法包含如下步骤S1，根据腔体外形构建腔体的虚拟口径面；S2，对激励源进行辐射积分，得出所述虚拟口径面的电磁场分布；S3，将虚拟口径面上的电磁场分布作为激励源对整体腔体进行电磁计算，并构造采用线性方程组，求解腔体内部散射；S4，采用Krylov子空间迭代法求解线性方程组；S5，获得稳定的腔体内壁电流，并得到口径场，以所述的口径场作为激励源求解远场散射特性。本发明通过口径场激励代替低散射载体一方面减小了计算的未知量，同时也省去了低散射载体的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复杂 体内 散射 特性 计算方法 | ||
【主权项】：
一种复杂腔体内部散射特性的计算方法，其特征在于，该计算方法包含如下步骤：S1，根据腔体外形构建腔体的虚拟口径面；S2，对激励源进行辐射积分，得出所述虚拟口径面的电磁场分布；S3，将虚拟口径面上的电磁场分布作为激励源对整体腔体进行电磁计算，并构造采用线性方程组，求解腔体内部散射；S4，采用Krylov子空间迭代法求解线性方程组；S5，获得稳定的腔体内壁电流，并得到口径场，以所述的口径场作为激励源求解远场散射特性。
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