[发明专利]一种提高光学临近修正准确性的方法

摘要

本发明提供一种提高光学临近修正准确性的方法，其包括：步骤S1：在进行基于模型的光学临近修正之前，确定版图中尺寸较大的目标图形；针对版图中尺寸较大的目标图形，按照一定的规则，较大面积地填充加入一定方向、宽度、长度、间距以及错位大小的反向狭槽型辅助图形；步骤S2：对版图进行基于模型的光学临近修正。本发明通过平衡整个测试区域的光线透过率，减小了模型在模拟光学系统上的误差，从而提高基于模型的光学临近修正的准确性。

主权项

1.一种提高光学临近修正准确性的方法，其特征在于，包括：/n步骤S1：确定版图中尺寸较大的目标图形；针对所述版图中尺寸较大的目标图形，按照一定的规则，大面积填充一预定方向、预定宽度、长度、预定间距以及预定错位大小的反向狭槽型辅助图形；其中，所述按照一定规则是指在距离目标的图形层一预定范围内；所述大面积填充是指在满足条件的反向狭槽型辅助图形区域都进行填充；所述步骤S1中的一预定方向指反向狭槽型辅助图形为竖直和/或水平；所述预定间距是指反向狭槽型辅助图形的间距，所述预定错位是指反向狭槽型辅助图形的竖直方向上的错位；所述版图中尺寸较大的目标图形为在常规的散射条加入之后，能具有满足至少加入一列或一行规定长度的反向狭槽型辅助图形的尺寸；/n所述步骤S1具体包括：/n步骤S11：选取待填充反向狭槽型辅助图形的目标图形区域A；其中，所述目标图形区域A在基于规则的光学临近修正填充常规散射条之后，选中由常规散射条往外，确定需排布反向狭槽型辅助图形的目标区域范围；/n步骤S12：选择反向狭槽型辅助图形的宽度和长度；其中，所述反向狭槽型辅助图形的宽度等于或小于常规的散射条宽度，且确保反向狭槽型辅助图形不在晶圆上被曝出来；/n步骤S13：在区域A中填充所述反向狭槽型辅助图形；/n步骤S2：对版图进行基于模型的光学临近修正。/n