[发明专利]一种真空镀膜机的蒸镀坩埚在审
| 申请号： | 201610836635.4 | 申请日： | 2016-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN106222614A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 沈艺辉 | 申请（专利权）人： | 铜陵市铜创电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 244000 安徽省铜陵市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空镀膜机的蒸镀坩埚，包括用于容纳被加热物料的容纳腔、围绕在所述容纳腔外围的加热腔、以及包围所述加热腔的外壁，所述加热腔内由上往下依次设有用于保证坩埚蒸发口的温度高于蒸发物料凝点并独立控温的上部加热单元、位于坩埚外围独立控温的下部加热单元，所述加热腔顶部设有用于所述被加热物料通过的流道，所述流道的顶端设置有开口，所述流道的两端的直径大于所述流道中部的直径，所述流道的设置有所述开口的一端的直径小于所述容纳腔的内径。本发明具有以下有益效果：双供热系统设计，便于控制坩埚不同部分的温度，顶部的温度略高于材料蒸发温度，可以避免材料的凝结；通过精确控制蒸发温度，实现了材料蒸发速率的稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 坩埚 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜机的蒸镀坩埚，其特征在于：包括用于容纳被加热物料的容纳腔（1）、围绕在所述容纳腔（1）外围的加热腔（2）、以及包围所述加热腔（2）的外壁（3），所述加热腔（2）内由上往下依次设有用于保证坩埚蒸发口的温度高于蒸发物料凝点并独立控温的上部加热单元（4）、位于坩埚外围独立控温的下部加热单元（5），所述加热腔（2）顶部设有用于所述被加热物料通过的流道（6），所述流道（6）的顶端设置有开口，所述流道（6）的两端的直径大于所述流道（6）中部的直径，所述流道（6）的设置有所述开口的一端的直径小于所述容纳腔（1）的内径。
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