[发明专利]一种倒装高压芯片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201610824816.5 申请日: 2016-09-18
公开(公告)号: CN106159056A 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 徐亮;何键云 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00;H01L33/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528200 广东省佛山市南海区狮*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种倒装高压芯片及其制作方法,在发光微结构表面形成分布布拉格反射层,一方面将有源区发出的光反射回芯片的正面,提高芯片的出光效率,另一方面将N型电极、P型电极和N型焊盘、P型焊盘隔绝起来,起到良好的钝化保护作用。
搜索关键词: 一种 倒装 高压 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
一种倒装高压芯片的制作方法,其特征在于,包括:提供一衬底;在所述衬底任意一表面形成多个发光微结构,所述发光微结构包括位于所述衬底表面的N型氮化镓层,位于所述N型氮化镓层表面的有源层和N型电极,位于所述有源层表面的P型氮化镓层,位于所述P型氮化镓层表面的金属反射层,位于所述金属反射层表面的P型电极, N型电极与P型电极之间相互绝缘;将相连的发光微结构的N型电极和P型电极连接形成串联结构;在所述发光微结构表面形成分布布拉格反射层;在所述分布布拉格反射层表面形成N型焊盘和P型焊盘,所述N型焊盘连接所述N型电极,所述P型焊盘连接所述P型电极。
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