[发明专利]一种单面板高精度开窗方法

摘要

本发明涉及一种单面板高精度开窗方法。其技术方案是包含以下步骤：1. 对双面铜箔基材干膜贴附；2.曝光显影、3.蚀刻；4退膜、5.激光开窗：使用UV‑Yag 或CO2激光对大于开窗区域进行激光腐蚀,6.贴膜、7.蚀刻8.退膜9.等离子清洗：通过等离子清洗去除激光残留碳化层，得到最终的高精度开窗，该方法获得的开窗精度可达25um。本发明的有益效果是：本发明实现了将开窗精度提高的25um级别，其方法简单，实现容易，面对一些特殊要求的工艺，可以满足其要求，并且实现了工业化生产，提高了经济效益。

主权项

一种单面板高精度开窗方法，其特征是包含以下步骤：（1）.对双面铜箔基材干膜贴附；干膜厚度为20um；（2）.曝光显影：通过LDI直接曝光或采用菲林图形通过平行曝光机进行曝光，采用质量百分比浓度为 1%的碳酸钠显影溶液进行显影，去除未曝光干膜；（3）.蚀刻：采用蚀刻药水酸性氯化铜溶液对铜面进行蚀刻；（4）.退膜：质量百分比浓度为3~5%氢氧化钠溶液进行退膜；（5）.激光开窗：使用激光设备UV‑Yag 或CO2激光对大于开窗区域进行激光腐蚀，该操作会将基材去除，得到高精度的开窗；（6）.贴膜：保护L1面的图形线路；（7）.蚀刻：去除L2面的定位铜面开窗，激光残留的碳化层会形成保护层，防止L1面被蚀刻；（8）.退膜：退膜溶液剥离L1面干膜；（9）.等离子清洗：通过等离子清洗去除激光残留碳化层，得到最终的高精度开窗，该方法获得的开窗精度可达25um。