[发明专利]一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε-HNIW晶体的方法有效
| 申请号： | 201610702004.3 | 申请日： | 2016-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN106317061B | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 郭学永;张洪垒;焦清介;黄阳飞;崔超;任慧 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C07D487/22 | 分类号： | C07D487/22 |
| 代理公司： | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人： | 鲍文娟 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体的方法，属于含能材料领域。具体方法为：将低浓度的HNIW加入到反溶剂中，持续搅拌，析出晶体；再加入高浓度的HNIW，搅拌均匀后加入大量反溶剂使晶体从溶液中析出；过滤、洗涤、干燥得到大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体。本发明使用不同浓度法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体。该工艺具有：操作简单，反溶剂用量少，可以回收，反应条件温和，安全可靠，绿色高效，并容易实现产业化等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 圆滑 大颗粒 反溶剂 析出 晶体的 持续搅拌 反应条件 含能材料 产业化 洗涤 过滤 回收 | ||
【主权项】：
1.一种不同浓度法制备大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体的方法，其特征在于：具体步骤如下：将低浓度的HNIW加入到反溶剂中，持续搅拌，析出晶体；再加入高浓度的HNIW，搅拌均匀后加入大量反溶剂使晶体从溶液中析出；过滤、洗涤、干燥得到大颗粒圆滑ε‑HNIW晶体；所述低浓度的HNIW的浓度为0.30‑0.35克/毫升；所述高浓度的HNIW的浓度为0.4克/毫升；低浓度的HNIW中的HNIW含量是高浓度的HNIW中HNIW含量的15％‑20％；所述将低浓度的HNIW加入到反溶剂中时需保证反溶剂体积为低浓度的HNIW所用溶剂的2.5‑3倍；所述大量反溶剂的体积为高浓度的HNIW所用溶剂体积的2‑2.5倍。
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