[发明专利]存储器装置的形成方法有效

专利信息
申请号: 201610682869.8 申请日: 2016-08-18
公开(公告)号: CN107768515B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 林家鸿;林立伟;曾逸贤;蔡宗寰 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 汤在彦;郭晓宇
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种存储器装置的形成方法,包含形成多个存储器单元,对该些存储器单元实施第一烘烤,设定规定电流,在实施第一烘烤之后,对该些存储器单元实施检验程序,其中检验程序包含读取存储器单元的电流,其中当存储器单元的读取电流大于或等于规定电流,则完成存储器单元的检验程序,或者当存储器单元的读取电流小于规定电流,对该些存储器单元实施再形成工艺,形成多个再形成的存储器单元,并对该些再形成的存储器单元实施检验程序。本发明通过于存储器单元的形成方法中加入第一烘烤工艺、检验程序及再形成工艺,可提前筛选出脆弱或是残留的存储器单元,可明显改善设定电流不容易与重置电流区分,亦即对于数据储存状态较不易判读的问题。
搜索关键词: 存储器 装置 形成 方法
【主权项】:
一种存储器装置的形成方法,其特征在于,包括:形成多个存储器单元;对该些存储器单元实施一第一烘烤;设定一规定电流;以及在实施该第一烘烤之后,对该些存储器单元实施一检验程序,其中该检验程序包括:读取该存储器单元的电流,其中当该存储器单元的读取电流大于或等于该规定电流,则完成该些存储器单元的该检验程序,或者当该存储器单元的读取电流小于该规定电流,对该些存储器单元实施一再形成工艺,形成多个再形成的存储器单元,并对该些再形成的存储器单元实施该检验程序。
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