[发明专利]室温下紫外光辅助溅射制备AZO薄膜的方法

摘要

室温下紫外光辅助溅射制备AZO薄膜的方法，采用紫外光在线辐照的情况下，利用磁控溅射室温沉积AZO薄膜，其步骤为：(1) 衬底清洗；(2) 预溅射；(3) 紫外光辐照；(4) AZO薄膜制备。通过紫外光辅助室温磁控溅射方法制备的AZO薄膜无需再进行后续的处理环节，降低了生产成本，工艺操作相对简单，适于工业生产。

主权项

室温下紫外光辅助溅射制备AZO薄膜的方法，其特征在于，采用紫外光在线辐照的情况下，利用磁控溅射室温沉积AZO薄膜，其步骤为：(1) 衬底清洗：分别采用丙酮、无水乙醇对衬底超声清洗10‑30 min，再用去离子水对衬底超声清洗10‑15 min，然后进行干燥； (2) 预溅射：将干燥后的衬底装入溅射镀膜设备的真空腔体内，将活动挡板置于出衬底与靶材之间，并抽真空至5×10^‑3 Pa，然后充入工作气体氩气至真空室压强为0.1‑0.8 Pa，并进行预溅射5‑30 min； (3) 紫外光辐照：打开位于溅射真空腔体底部的紫外灯，紫外灯功率为15‑40W，波长为254nm或365nm，紫外灯距离衬底15‑30 cm； (4) AZO薄膜制备：打开活动挡板，在紫外光辐照情况下，室温条件下进行AZO溅射镀膜，溅射真空气氛为氩气，真空室压强为0.15‑0.8 Pa，溅射功率为80‑200 W，溅射时间为20‑60 min。