[发明专利]一种用于多晶硅片生产的自动下料刻蚀机有效
申请号: | 201610656297.6 | 申请日: | 2016-08-11 |
公开(公告)号: | CN106098598B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 张冠纶 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(合肥)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 合肥顺超知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34120 | 代理人: | 周发军 |
地址: | 230000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及多晶硅生产设备技术领域,具体涉及一种用于多晶硅片生产的自动下料刻蚀机,包括等离子刻蚀机、超声清洗设备、抛光设备、带传动机构、装片盒、硅片输出装置、气体泵、冷凝装置和支撑架,本发明实现了对硅片刻蚀、清洗、干燥和抛光的目的,气体泵将刻蚀机中的热空气抽出并通过管道传递给泠凝装置,冷凝装置将热空气冷凝为液态水,热空气经冷凝后流入超声清洗设备中供清洗硅片使用,实现了刻蚀机的降温,也利用了热空气,节约了水资源,当装片盒中没有硅片时,伸缩杆收缩成初始状态,吸盘将不会吸附装片盒中的硅片刻蚀机和其它装置均不工作,减少了电能的浪费,节省了能源,整个生产过程实现了自动化和智能化,具有很大的创造性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 多晶 硅片 生产 自动 刻蚀 | ||
【主权项】:
1.一种用于多晶硅片生产的自动下料刻蚀机,包括机体,其特征在于,包括等离子刻蚀机、超声清洗设备、抛光设备、带传动机构、装片盒、硅片输出装置、气体泵、冷凝装置和支撑架;所述刻蚀机的的上部设有吸盘、所述吸盘上设有光学距离测量仪、微处理器、信号输出设备、控制器,所述超声清洗设备和抛光设备的上端均设置有红外感应器、微处理器、信号输出装置、控制器,所述等离子刻蚀机、超声清洗设备、抛光设备、带传动机构、装片盒、硅片输出装置均设置在所述机体的后半部,所述气体泵和冷凝装置设置在机体的前半部,所述支撑架的下端设置有滚轮,可以使机体随意移动,所述等离子刻蚀机、气体泵、冷凝装置和超声清洗设备通过PVC管道相连,所述等离子刻蚀机、超声清洗设备、抛光设备和装片盒通过带传动机构相连接,所述红外感应器、微处理器、信号输出装置和控制器依次电性连接,所述光学距离测量仪、微处理器、信号输出设备和控制器依次电性连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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