[发明专利]一种用于超级电容器的NiSe三维多孔纳米片材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610654669.1 申请日: 2016-08-11
公开(公告)号: CN106315522B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 吕建国;杨杰 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04;H01G11/30;H01G11/24;H01G11/26;H01G11/86
代理公司: 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人: 张宇娟;李学红
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种用于超级电容器的NiSe三维多孔纳米片材料及其制备方法。NiSe纳米片堆积并纵横交错形成互相连通的三维立体孔状结构,纳米片厚度不超过10nm,100~300nm大孔与10~100nm小孔均匀交错分布。NiSe三维多孔纳米片材料在1A g‑1电流密度下的比电容值1565 F g‑1。NiSe三维多孔纳米片材料采用一步水热法合成,以泡沫镍为基底,六水合氯化镍、亚硒酸钠、水合肼和去离子水混合得到前驱体溶液,置于反应釜中140~180℃反应8~24h,即得到产物。本制备方法简单易行,所得的NiSe三维多孔纳米片材料具有优异的电化学性能,适合工业化生产。
搜索关键词: 一种 用于 超级 电容器 nise 三维 多孔 纳米 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于超级电容器的NiSe三维多孔纳米片材料,其特征在于:所述NiSe三维多孔纳米片材料由纳米片堆积并纵横交错形成互相连通的三维立体孔状结构,且大孔小孔均匀交错分布,纳米片厚度不超过10nm,大孔孔径100~300nm,小孔孔径10~100nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610654669.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top