[发明专利]光栅刻划机及其刻划系统在审
| 申请号： | 201610647144.5 | 申请日： | 2016-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN106066502A | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 唐玉国;糜小涛;李晓天;宋楠;姚雪峰;齐向东;巴音贺希格 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李海建 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光栅刻划机的刻划系统，包括支架、滑套、导轨和驱动系统，其中，滑套上至少设置有两组能够进行刻划的刀架，滑套可在导轨上往复滑动，驱动系统为滑套的往复运动提供动力支持。本申请中公开的刻划系统至少具有两组刀架可实现至少两个光栅母板的刻划，减少了刻划次数、缩短了光栅的研制时间、提高了刻划效率。本发明还公开了一种具有上述刻划系统的光栅刻划机。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 刻划 及其 系统 | ||
【主权项】：
一种光栅刻划机的刻划系统，其特征在于，包括：支架(6)；滑套(4)，所述滑套(4)上至少具有两组进行刻划的刀架(5)；所述滑套(4)可在所述导轨上往复滑动；与所述滑套(4)连接驱动所述滑套(4)往复滑动的驱动系统。
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