[发明专利]一种石墨承载盘烘烤装置在审
申请号: | 201610634415.3 | 申请日: | 2016-08-05 |
公开(公告)号: | CN106086817A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 魏鸿源;丁峰;张海金;胡小龙;朱廷刚 | 申请(专利权)人: | 江苏能华微电子科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;徐伟华 |
地址: | 215600 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨承载盘烘烤装置,包括外壳、矩形管、加热器,外壳的前端部上开设有用于向矩形管内充入反应气的第一进气通道、用于向外壳内腔中充入保护气的第二进气通道,外壳的后端部上开设有与外壳内腔气流相通的排气通道,矩形管的前、后两端部上分别开设有进气口与出气口,矩形管上的进气口与第一进气通道气流相通且矩形管的前端部与第一进气通道相密封设置,烘烤装置还包括排气管,外壳内腔中的保护气沿排气通道与排气管间的间隙排出烘烤装置外。该烘烤装置结构简单,占用空间小,烘烤过程中,能够对石墨承载盘进行均匀的烘烤,且石墨承载盘表面的沉积物能够清理的更干净。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 承载 烘烤 装置 | ||
【主权项】:
一种石墨承载盘烘烤装置,其特征在于,所述烘烤装置包括沿前后方向设置的具有密封内腔的外壳、沿前后方向插设在所述外壳内腔中的矩形管、设于所述外壳内腔中的用于在所述矩形管的径向方向上对所述矩形管进行加热的加热器,所述外壳的前端部上开设有用于向所述矩形管内充入反应气的第一进气通道、用于向所述外壳内腔中充入保护气的第二进气通道,所述外壳的后端部上开设有与所述外壳内腔气流相通的排气通道,所述矩形管的前、后两端部上分别开设有进气口与出气口,所述矩形管上的进气口与所述第一进气通道气流相通且所述矩形管的前端部与所述第一进气通道相密封设置,所述烘烤装置还包括一端密封地连接在所述矩形管出气口上、另一端穿设通过所述排气通道后将所述矩形管内的反应气排出所述烘烤装置外的排气管,所述排气管的外侧壁与所述排气通道的内侧壁间构成一环形腔,所述外壳内腔中的保护气从所述环形腔中排出所述烘烤装置外。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的