[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

摘要

本案涉及基板处理装置及基板处理方法。在一面从使基板上浮的上浮平台搬送基板一面对搬送中的基板实施处理的基板处理装置中，通过使基板的排列处理及基板向上浮平台的移载处理合理化而缩短基板处理装置的工作时间。本发明的基板处理装置具备：上浮平台，使基板上浮；搬送机构，从上浮平台接收基板并搬送；处理机构，对通过搬送机构搬送的基板实施处理；及移载机构，将基板移载至上浮平台；且移载机构具备：接纳上浮部，使搬送而来的基板上浮并予以接纳；排列部，使通过接纳上浮部而上浮的基板排列；保持部，保持通过排列部而排列的基板；及驱动部，使保持部移动至上浮平台。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于具备：/n上浮平台，使基板上浮；/n搬送机构，从上浮平台接收基板并搬送；/n处理机构，对通过所述搬送机构而搬送的基板实施处理；及/n移载机构，将基板移载至所述上浮平台；且/n所述移载机构具备：/n接纳上浮部，使搬送而来的基板上浮并予以接纳；/n排列部，使通过所述接纳上浮部而上浮的所述基板排列；/n保持部，保持通过所述排列部而排列的所述基板；及/n驱动部，使所述保持部移动至所述上浮平台；且/n所述移载机构是在使所述基板的一主面朝向上方的水平状态下接纳所述基板，且保持所述水平状态将所述基板移载至所述上浮平台；/n所述保持部吸附并保持所述基板的另一主面；且/n所述保持部在进行利用所述接纳上浮部接纳所述基板及利用所述排列部来排列所述基板的期间，不进行所述基板的另一主面的吸附，且一面位于通过所述接纳上浮部使所述基板上浮并接纳所述基板的基板接纳区域的下方位置，一面朝向所述基板接纳区域喷射气体，/n在所述基板的排列完成之后停止所述气体的喷射，继而吸附所述基板的另一主面。/n