[发明专利]用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件有效
申请号: | 201610576522.5 | 申请日: | 2016-07-19 |
公开(公告)号: | CN106024876B | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 孙伟锋;陈佳俊;张龙;祝靖;陆生礼;时龙兴 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 214135 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件,在提高传统结构关断速度的情况下,消除了回滞现象。该半导体具备:在P型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型漂移区,其两侧设有N型缓冲区阵列和P型体区,在N型缓冲区列阵的各个N型缓冲区内设有重掺杂P型集电极区,在相邻的重掺杂P型集电极区之间设有第一N型重掺杂区,P型体区内设有P型阱区,P型阱区设有重掺杂P型发射极区,重掺杂P型发射极区周边设有重掺杂N型发射区,在N型漂移区内设有氧化层隔离沟槽,所述沟槽与器件边界共同形成一N型漂移区的局部封闭区,各第一N型重掺杂区分别被氧化层隔离沟槽包围且相邻的重掺杂P型集电极区与N型重掺杂区被氧化层隔离沟槽隔离。 | ||
搜索关键词: | 用于 消除 现象 逆导型 横向 绝缘 栅双极型 晶体管 器件 | ||
【主权项】:
1.一种用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有N型漂移区(3),在N型漂移区(3)的两侧分别设有N型缓冲区阵列和P型体区(4),在N型缓冲区阵列的各个N型缓冲区(12)内有重掺杂的P型集电极区(13),在相邻重掺杂的P型集电极区(13)之间设有第一N型重掺杂区(14),在P型体区(4)内设有P型阱区(5),在P型阱区(5)设有重掺杂的P型发射极区(6),在重掺杂的P型发射极区(6)的周边设有重掺杂的N型发射区(7),其特征在于,在N型漂移区(3)内设有氧化层隔离沟槽(11)且氧化层隔离沟槽(11)始于N型漂移区(3)上表面并深及埋氧(2),所述氧化层隔离沟槽(11)与所述器件的边界共同形成一N型漂移区(3)的局部封闭区,各第一N型重掺杂区(14)分别被氧化层隔离沟槽(11)包围且相邻的重掺杂的P型集电极区(13)与N型重掺杂区(14)被氧化层隔离沟槽(11)隔离,在相邻氧化层隔离沟槽(11)之间设有第二N型重掺杂区(8),在第二N型重掺杂区(8)上设有金属电极(9)且所述金属电极(9)与第二N型重掺杂区(8)欧姆接触,在所述N型漂移区(3)的局部封闭区上设有金属电极(10)且所述金属电极(10)与N型漂移区(3)的局部封闭区形成肖特基接触,所述金属电极(9)与金属电极(10)连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610576522.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类