[发明专利]用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件有效

专利信息
申请号: 201610576522.5 申请日: 2016-07-19
公开(公告)号: CN106024876B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 孙伟锋;陈佳俊;张龙;祝靖;陆生礼;时龙兴 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件,在提高传统结构关断速度的情况下,消除了回滞现象。该半导体具备:在P型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型漂移区,其两侧设有N型缓冲区阵列和P型体区,在N型缓冲区列阵的各个N型缓冲区内设有重掺杂P型集电极区,在相邻的重掺杂P型集电极区之间设有第一N型重掺杂区,P型体区内设有P型阱区,P型阱区设有重掺杂P型发射极区,重掺杂P型发射极区周边设有重掺杂N型发射区,在N型漂移区内设有氧化层隔离沟槽,所述沟槽与器件边界共同形成一N型漂移区的局部封闭区,各第一N型重掺杂区分别被氧化层隔离沟槽包围且相邻的重掺杂P型集电极区与N型重掺杂区被氧化层隔离沟槽隔离。
搜索关键词: 用于 消除 现象 逆导型 横向 绝缘 栅双极型 晶体管 器件
【主权项】:
1.一种用于消除回滞现象的逆导型横向绝缘栅双极型晶体管器件,包括:P型衬底(1),在P型衬底(1)上设有埋氧(2),在埋氧(2)上设有N型漂移区(3),在N型漂移区(3)的两侧分别设有N型缓冲区阵列和P型体区(4),在N型缓冲区阵列的各个N型缓冲区(12)内有重掺杂的P型集电极区(13),在相邻重掺杂的P型集电极区(13)之间设有第一N型重掺杂区(14),在P型体区(4)内设有P型阱区(5),在P型阱区(5)设有重掺杂的P型发射极区(6),在重掺杂的P型发射极区(6)的周边设有重掺杂的N型发射区(7),其特征在于,在N型漂移区(3)内设有氧化层隔离沟槽(11)且氧化层隔离沟槽(11)始于N型漂移区(3)上表面并深及埋氧(2),所述氧化层隔离沟槽(11)与所述器件的边界共同形成一N型漂移区(3)的局部封闭区,各第一N型重掺杂区(14)分别被氧化层隔离沟槽(11)包围且相邻的重掺杂的P型集电极区(13)与N型重掺杂区(14)被氧化层隔离沟槽(11)隔离,在相邻氧化层隔离沟槽(11)之间设有第二N型重掺杂区(8),在第二N型重掺杂区(8)上设有金属电极(9)且所述金属电极(9)与第二N型重掺杂区(8)欧姆接触,在所述N型漂移区(3)的局部封闭区上设有金属电极(10)且所述金属电极(10)与N型漂移区(3)的局部封闭区形成肖特基接触,所述金属电极(9)与金属电极(10)连接。
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