[发明专利]层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用有效
申请号: | 201610575159.5 | 申请日: | 2016-07-20 |
公开(公告)号: | CN107640765B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 方海平;吴明红;石国升;徐刚;陈亮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海应用物理研究所;上海大学 |
主分类号: | C01B32/198 | 分类号: | C01B32/198;B01D71/02;B01D69/02;B01D67/00;B01D61/00 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦;张佶颖 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种层间距可控的氧化石墨烯膜及其制备方法、应用。其制备方法包括下述步骤:将氧化石墨烯膜浸润在盐的水溶液A中浸润至溶胀后,即得层间距可控的氧化石墨烯膜;盐的水溶液A为含有金属阳离子的溶液,金属阳离子的浓度为0.25~2.5mol/L。本发明可精确控制氧化石墨烯膜的层间通道的尺寸在 |
||
搜索关键词: | 间距 可控 氧化 石墨 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种层间距可控的氧化石墨烯膜的制备方法,其特征在于,其包括下述步骤:将氧化石墨烯膜浸润在盐的水溶液A中浸润至溶胀后,即得层间距可控的氧化石墨烯膜;其中,所述盐的水溶液A为含有金属阳离子的溶液,所述水溶液A中,所述金属阳离子的浓度为0.25~2.5mol/L。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海应用物理研究所;上海大学,未经中国科学院上海应用物理研究所;上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610575159.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。