[发明专利]一种真空密封性能测量装置和方法

摘要

本发明公开了一种真空密封性能测量装置及方法，该装置包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)。该方法采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器的密封性能，其中动态法适用于相对较大的漏率测量，其测量范围与四极质谱计(12)的最小可检信号、小孔流导相关，静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量，利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器(5)的氦漏率。

主权项

1.一种真空密封性能测量装置，包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)，其中第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、真空规(11)、四极质谱计(12)分别各自连接到测量室(13)，限流小孔(7)的一端通过角阀(6)连接到测量室(13)，限流小孔(7)的另一端连接到分子泵组(8)和插板阀(10)之间，第一干式机械泵(9)通过分子泵组(8)借由插板阀(10)连接到测量室(13)，其中，真空规(11)用于密封容器漏率总压测量，所述密封容器漏率总压测量包括：密封容器(5)漏率响应总压测量、所选标准漏孔的响应总压测量、以及系统总压本底测量；四极质谱计(12)用于密封容器(5)单一气体成分漏率测量或分压漏率测量，所述单一气体成分漏率测量包括：单一气体成分的本底累积离子流测量、所选标准漏孔的累积响应离子流测量、以及密封容器(5)累积响应离子流测量，所述分压漏率测量，包括：密封容器(5)检漏气体响应分压离子流测量、系统检漏气体分压本底离子流测量、以及所选标准漏孔的检漏气体分压本底离子流测量；限流小孔(7)用于动态法漏率测量过程中动态抽气，以维持测量室内气体的动态平衡；吸气剂泵(4)用于静态累积漏率测量过程中抽离主要由测量室(13)、密封容器(5)壁面在真空环境中放气产生的气体。