[发明专利]电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板的设备

摘要

本发明涉及电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板的设备，包括真空室和均设置在真空室内的隔板、多个电子束辅助装置、多对磁控靶、基材、用于控制基材运行的运行线路组件；运行线路组件包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、水冷鼓、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向布置，每对磁控靶的两侧均布置一个电子束辅助装置；放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊位于隔板的上方，电子束辅助装置、磁控靶位于隔板的下方。本发明有效改善金属薄层的沉积质量，大幅度提升金属薄层和基材的结合力，属于电子工业术领域。

主权项

1.电子束辅助等离子溅镀挠性覆铜板的设备，其特征在于：包括真空室和均设置在真空室内的隔板、多个电子束辅助装置、多对磁控靶、基材、用于控制基材运行的运行线路组件；运行线路组件包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、水冷鼓、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向布置，每对磁控靶的两侧均布置一个电子束辅助装置；水冷鼓的两侧均设置一块隔板，放卷辊、第一导辊、第一检测辊、第二导辊、第三导辊、第二检测辊、第四导辊、收卷辊位于隔板的上方，电子束辅助装置、磁控靶位于隔板的下方；所述的磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶；还包括多个交流电源，一个交流电源与一对磁控靶连接；所述磁控靶的磁场为发散型磁场；放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，第一导辊和第四导辊对称设置在真空室内，第一检测辊和第二检测辊对称设置在真空室内，第二导辊和第三导辊对称设置在真空室内；所述的基材为聚酰亚胺薄膜；所述的电子束辅助装置为空心阴极电子枪或热发射电子枪；所述的真空室呈圆形或方形。