[发明专利]增强型磁控溅射卷绕镀膜设备及方法

摘要

本发明公开一种增强型磁控溅射卷绕镀膜设备及方法，其设备中，卷绕机构、离子处理机构和镀膜机构设于真空室中；卷绕机构中的水冷鼓组件包括水冷鼓、绝缘动力传动件、同步带、电机、电机座和电极馈入接头，水冷鼓一端设置绝缘动力传动件、绝缘动力传动件通过同步带与电机连接，电机安装于电机座上，电极馈入接头设于绝缘动力传动件的外端，电极馈入接头外接偏压装置的负电位或正电位。其方法是当柔性基材送至水冷鼓处，水冷鼓先外接偏压装置的负电位，通过离子处理机构对柔性基材表面进行轰击处理；然后水冷鼓外接偏压装置的正电位，通过镀膜机构对柔性基材表面进行溅射镀膜。本发明可大幅提升膜层质量，特别是提高膜层的结合力，增强膜层附着力。

主权项

1.增强型磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，包括真空室、卷绕机构、离子处理机构和镀膜机构，卷绕机构、离子处理机构和镀膜机构设于真空室中；卷绕机构中设有水冷鼓组件，水冷鼓组件包括水冷鼓、绝缘动力传动件、同步带、电机、电机座和电极馈入接头，水冷鼓一端设置绝缘动力传动件、绝缘动力传动件通过同步带与电机连接，电机安装于电机座上，电极馈入接头设于绝缘动力传动件的外端，电极馈入接头外接偏压装置的负电位或正电位；水冷鼓的两端还分别设有绝缘支撑架；所述镀膜机构为磁控溅射机构，包括至少一组磁控靶，磁控靶设于水冷鼓外周；其中，当离子处理机构对柔性基材进行镀膜前离子处理时，电极馈入接头外接偏压装置的负电位，通过电场的作用加速离子对柔性基材表面进行轰击处理，激发基材中杂质气体释放，同时活化基材表面；当镀膜机构对柔性基材进行镀膜时，电极馈入接头外接偏压装置的正电位，磁控靶工作时，在电场的作用下产生辉光放电，产生稳定的等离子体。