[发明专利]一种流水式连续规模化石墨烯薄膜制备装置有效
申请号: | 201610480940.4 | 申请日: | 2016-06-27 |
公开(公告)号: | CN106119806B | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 李占成;史浩飞;高翾;张永娜;黄德萍;姜浩;于本文 | 申请(专利权)人: | 重庆墨希科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/54 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 401329 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明涉及一种流水式连续规模化石墨烯薄膜制备装置,包括高温工艺腔、低温冷却腔A、低温冷却腔B和样品舟,沿低温冷却腔A、高温工艺腔和低温冷却腔B的两侧内壁中部分别水平固定设置有滑轨,样品舟的两侧分别对应滑轨转动连接有滑轮组,样品舟通过其两侧的滑轮组沿滑轨滑动;低温冷却腔A和低温冷却腔B内分别设有结构一致的推舟装置A和推舟装置B,推舟装置A和推舟装置B上分别可拆卸的连接有取样杆A和取样杆B,取样杆A远离推舟装置A的一端可由推舟装置A带动连接或脱离样品舟,取样杆B远离推舟装置B的一端可由推舟装置B带动连接或脱离样品舟。有益效果是增大样品舟载重量、连续生产等。 | ||
搜索关键词: | 一种 流水 连续 规模化 石墨 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】:
1.一种流水式连续规模化石墨烯薄膜制备装置,其特征在于:包括高温工艺腔(7)、低温冷却腔A(3)、低温冷却腔B(10)和样品舟(4),所述低温冷却腔A(3)和低温冷却腔B(10)分别通过带胶圈(6.3)的水冷法兰(6)与所述高温工艺腔(7)的两端密封固定连接,所述低温冷却腔A(3)和低温冷却腔B(10)靠近对应的所述水冷法兰(6)的一端分别设有密封阀门A(5)和密封阀门B(9);沿所述低温冷却腔A(3)、高温工艺腔(7)和低温冷却腔B(10)的两侧内壁中部分别水平固定设置有滑轨(14),所述滑轨(14)在所述密封阀门A(5)和密封阀门B(9)处断开,所述样品舟(4)位于低温冷却腔A(3)内,所述样品舟(4)两侧分别对应所述滑轨(14)转动连接有滑轮组(13),所述样品舟(4)通过其两侧的所述滑轮组(13)沿所述滑轨(14)滑动;所述低温冷却腔A(3)和低温冷却腔B(10)内分别设有结构一致的推舟装置A(1)和推舟装置B(12),所述推舟装置A(1)和推舟装置B(12)上分别可拆卸的连接有向所述高温工艺腔(7)水平延伸的取样杆A(15)和取样杆B(11),所述取样杆A(15)远离所述推舟装置A(1)的一端可由所述推舟装置A(1)带动连接或脱离所述样品舟(4),所述样品舟(4)与所述取样杆A(15)连接后可被所述推舟装置A(1)沿所述滑轨(14)推入所述高温工艺腔(7),所述取样杆B(11)远离所述推舟装置B(12)的一端可由所述推舟装置B(12)带动连接或脱离所述样品舟(4),进入所述高温工艺腔(7)的所述样品舟(4)与所述取样杆B(11)连接后可被所述推舟装置B(12)沿所述滑轨(14)拉入所述低温冷却腔B(10);所述推舟装置A(1)包括外壳(16)、水平传动机构和竖直传动机构,所述取样杆A(15)靠近所述推舟装置A(1)的一端与所述外壳(16)活动连接,所述水平传动机构和竖直传动机构位于所述外壳(16)内,所述水平传动机构带动所述外壳(16)在所述低温冷却腔A(3)内沿所述取样杆A(15)的延伸方向水平往复位移,所述竖直传动机构带动所述取样杆A(15)在所述低温冷却腔A(3)内竖直往复位移,所述取样杆A(15)远离所述推舟装置A(1)的一端水平固定设置有挂钩(8),所述挂钩(8)的勾部竖直设置;所述样品舟(4)的外壁对应所述挂钩(8)位置水平固定设置有挂环(101),所述挂钩(8)随所述取样杆A(15)的水平和竖直往复位移挂接或脱离所述挂环(101);所述推舟装置B(12)通过所述取样杆B(11)与所述样品舟(4)的连接结构与所述推舟装置A(1)通过所述取样杆A(15)与所述样品舟(4)的连接结构一致;所述水平传动机构包括导向轨(2)和电机A(20),所述导向轨(2)沿所述取样杆A(15)的延伸方向水平穿过所述外壳(16)并固定在所述低温冷却腔A(3)的内壁,在所述外壳(16)顶部内壁对应所述导向轨(2)开设有水平导向槽,所述导向轨(2)与所述水平导向槽滑动连接,所述电机A(20)固定设置在所述外壳(16)的内侧壁上,电机A(20)输出轴上套接有齿轮A(19),所述导向轨(2)的内侧壁沿所述导向轨(2)的延伸方向并列开设有多个齿槽A,所述齿轮A(19)与所述齿槽啮合,所述电机A(20)正反转带动所述外壳(16)沿所述导向轨(2)在所述低温冷却腔A(3)内水平往复位移。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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