[发明专利]一种弱反射率光纤光栅的制作方法有效

专利信息
申请号: 201610475688.8 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN106199820B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 赵德春;王鹏 申请(专利权)人: 深圳市畅格光电有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 张立娟
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种弱反射率光纤光栅的制作方法。步骤1:将掺锗单模光纤放入氢气装置内,压力设置为不超过8Mpa,时间不超过1天;步骤2:将氢气装置压力下调至4Mpa以内,不超过72小时,将光纤取出;步骤3:将光纤放入烤箱内烘烤,温度不超过85度,时间不超过两小时;步骤4:激光器设置:频率在20Hz以内,功率在2.5mJ/Pulse以内;步骤5:按正常操作进行光栅写入,在线监测深度至写入达饱和状态,透射深度不再增加为止;步骤6:将光栅放入烤箱内,进行退火处理。本发明制作流程简单,未增加任何仪器设备;本发明通过对光纤内氢气含量的控制,可以得到反射率0.1%的弱光纤光栅。
搜索关键词: 一种 反射率 光纤 光栅 制作方法
【主权项】:
1.一种弱反射率光纤光栅的制作方法,其特征在于:步骤1:将掺锗单模光纤放入氢气装置内,压力设置为不超过8Mpa,时间不超过24小时;步骤2:将氢气装置压力下调至4Mpa以内,不超过72小时,将光纤取出;步骤3:将光纤放入烤箱内烘烤,温度不超过85度,时间不超过两小时;步骤4:激光器设置:频率在20Hz以内,功率在2.5mJ/Pulse以内;步骤5:进行光栅写入,在线监测深度至写入达饱和状态,透射深度不再增加为止;步骤6:将光栅放入烤箱内,进行退火处理;步骤7:最终测试,光栅制作完成。
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