[发明专利]龙泉青瓷青釉、龙泉青瓷及其制备方法

摘要

本发明公开了一种龙泉青瓷青釉、龙泉青瓷及其制备方法，青釉的氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66% SiO2，14～16% Al2O3，0.3～0.8% MgO，11～17% CaO，3～5% K₂O，0.2～0.5% Na₂O，0～0.25% TiO₂，0.03～0.1% MnO，0.1～0.15% Fe₂O₃；青釉由下列重量份的原料制成：熔块70～95%、高岭土0～8%、紫金土0～5%、石英0～15%、钾长石0～7%；熔块由下列重量份的原料制成：钾长石粉25～40%，高岭土粉5～15%，石英5～10%，龙泉瓷土25～30%，氧化铝粉15～25%，煅烧滑石5～10%，黄石玄釉土1～8%。本发明熔块釉突破了现有的技术瓶颈，解决了大批量生产龙泉青瓷时出现较为严重的青釉呈色色差的难题，为将传统龙泉青瓷通过二次烧成工艺提升为高档次青瓷提供了技术支撑。

主权项

1.一种龙泉青瓷的制备方法，其特征是按如下步骤：S1熔块的制备，取所述的熔块原料，均匀混合后，在还原气氛下熔融，熔制温度为1280℃～1350℃，然后经水淬、球磨、干燥后得到熔块；S2釉浆的制备：取所述的熔块釉原料进行配料，熔块釉经球磨过筛后得到青釉，釉浆陈腐后过筛除铁；S3将龙泉青瓷坯体干燥或坯体进行650℃～800℃素烧一次；S4将干燥后或素烧后龙泉青瓷除尘补水后，施青釉；S5将施釉后的龙泉青瓷产品在还原气氛下热处理；步骤S1、S2中：球磨时添加分散剂，分散剂为醇类、树脂类、聚丙烯酸酯类中的一种或多种；步骤S5中：还原气氛下热处理的温度为1150℃～1280℃，热处理升温速度为2～5℃/min，保温时间0.5～1.5 h；所述青釉，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66% SiO2，14～16% Al2O3，0.3～0.8% MgO，11～17% CaO，3～5% K2O，0.2～0.5% Na2O，0～0.25% TiO2，0.03～0.1% MnO，0.1～0.15% Fe2O3；所述青釉，其氧化物化学组成按重量百分比之和为100%；所述青釉由下列重量份的原料制成：熔块70～95%、高岭土0～8%、紫金土0～5%、石英0～15%、钾长石0～7%；所述熔块由下列重量份的原料制成：钾长石粉25～40%，高岭土粉5～15%，石英5～10%，龙泉瓷土25～30%，氧化铝粉15～25%，煅烧滑石5～10%，黄石玄釉土1～8%。