[发明专利]光刻用清洁组合物以及采用该组合物形成光刻胶图案的方法在审
| 申请号： | 201610446648.0 | 申请日： | 2016-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN106353976A | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 李昇勋;李昇炫;尹相雄;咸庆国 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 李静,许向彤 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻用清洁组合物以及采用该组合物的形成光刻胶图案的方法。所述清洁组合物是形成高纵横比的光刻胶图案所必需的，该清洁组合物包含水和由下面化学式1表示的化合物[化学式1]其中R是H或OH，x是选自1至100的整数，y是选自0至100的整数，z是选自0至100的整数。这种清洁组合物对采用任何光源形成图案均是有用的，并且，即使在单独使用光刻胶难以形成所需的精细图案时，仍可以在所需的细度水平实现精细图案并可以降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 清洁 组合 以及 采用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻用清洁组合物，其适合于防止光刻胶图案塌陷，该清洁组合物包含水和由下面化学式1表示的化合物：[化学式1]其中R是H或OH，x是选自5至15的整数，y是选自5至10的整数，以及z是0或1。
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