[发明专利]电磁屏蔽膜及电磁屏蔽窗的制作方法在审
| 申请号： | 201610412201.1 | 申请日： | 2016-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN106061218A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 刘艳花;陈林森;王波;沈悦;周云;周小红;叶燕;方宗豹 | 申请（专利权）人： | 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人： | 张芹 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，其包括以下步骤：1)在导电基板上涂布光刻胶，然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构；2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层，形成金属图形结构；3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内，形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点，可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 屏蔽 制作方法 | ||
【主权项】：
电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)在导电基板上涂布光刻胶，然后通过光刻工艺在所述导电基板上形成图形结构；2)通过选择性电沉积工艺在所述图形结构中生长金属层，形成金属图形结构；3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内，形成电磁屏蔽膜。
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