[发明专利]一种金属掩膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201610373550.7 | 申请日： | 2016-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107447190A | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 高志豪 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;G03F7/00;H01L21/027;H01L27/32 |
| 代理公司： | 上海隆天律师事务所31282 | 代理人： | 臧云霄,李峰 |
| 地址： | 201506 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属掩膜，包括环状通孔；内部非开孔区，其位于所述环状通孔内部；外围非开孔区，其位于所述环状通孔外部；桥接区，其连接所述内部非开孔区与所述外围非开孔区。本发明同时提供一种金属掩膜的制备方法，包括以下步骤(1)提供一掩膜底板，其具有第一面及与其相对的第二面，至少在第一面上涂布感光光阻；(2)曝光定义环状区域，并预留桥接区，经过显影、蚀刻形成环状通孔，其中所述环状通孔的内部是内部非开孔区，所述环状通孔的外部是外围非开孔区，所述桥接区连接所述内部非开孔区与所述外围非开孔区；(3)切除所述桥接区。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属掩膜，其特征在于，包括：环状通孔；内部非开孔区，其位于所述环状通孔内部；外围非开孔区，其位于所述环状通孔外部；桥接区，其连接所述内部非开孔区与所述外围非开孔区。
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