[发明专利]外延生长设备在审
| 申请号： | 201610353583.5 | 申请日： | 2016-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN107435164A | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 刘源;保罗·邦凡蒂 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/08 | 分类号： | C30B25/08;C30B25/10;C30B25/12 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 金华 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种外延生长设备，所述外延生长设备包括一反应室，所述反应室的内表面设有反射层，所述反射层上设有保护层。本发明提供的外延生长设备，通过在反应室内表面的反射层上设置保护层，从而延缓所述反射层的表面在高温下的形变，因此延长了所述反射层的使用寿命，降低了生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 生长 设备 | ||
【主权项】：
一种外延生长设备，其特征在于，所述外延生长设备包括一反应室，所述反应室的内表面设有反射层，所述反射层上设有保护层。
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