[发明专利]一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版在审
| 申请号： | 201610340807.9 | 申请日： | 2016-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN105789328A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 薛艳娜;吕振华;王磊;王世君 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/08;G03F1/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种图案对、TFT及其制作方法、掩膜版，涉及显示技术领域，能够在不提高曝光机分辨率的情况下，相邻两个薄膜图案之间的距离。该图案对，包括第一条状图案和第二条状图案，第一条状图案与第二条状图案之间的最大距离小于预设分辨率的125％。其中，预设分辨率为用于制作上述图案对所采用的曝光机的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图案 tft 及其 制作方法 掩膜版 | ||
【主权项】：
一种图案对，其特征在于，包括第一条状图案和第二条状图案，所述第一条状图案与所述第二条状图案之间的最大距离小于预设分辨率的125％；其中，所述预设分辨率为用于制作所述图案对所采用的曝光机的分辨率。
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