[发明专利]一种金属掩膜板的制备方法在审
| 申请号： | 201610333212.0 | 申请日： | 2016-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107419216A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 王国兵 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L21/027;G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及掩膜板制造技术领域，尤其涉及一种金属掩膜板的制备方法，通过在有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，并于该开口中形成金属膜之后，将金属膜剥离形成掩膜板，从而提高掩膜板的精度和PPI的上限。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供一衬底；于所述衬底上形成一层有机膜；于所述有机膜之上形成具有若干开口的光阻层，且所述开口暴露所述有机膜的部分表面；于所述光阻层上形成一层金属膜，所述金属膜覆盖所述光阻层的上表面并填充所述开口；移除位于所述光阻层之上的所述金属膜；将所述金属膜与所述有机膜、所述光阻层分离，以形成所述金属掩膜板。
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