[发明专利]单晶硅双面太阳电池及其制备方法有效
申请号: | 201610328025.3 | 申请日: | 2016-05-17 |
公开(公告)号: | CN105826411B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 盛赟;陈奕峰;崔艳峰;袁声召;端伟元;王子港 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所33233 | 代理人: | 郭小丽 |
地址: | 213031 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种单晶硅双面太阳电池,在单晶硅衬底的正面依次形成正面制绒形貌结构、正面PN发射结、正面钝化减反介质层以及正面电极,在单晶硅衬底的背面依次形成背面制绒形貌结构、背表面场、背面钝化减反介质层以及背面电极,其特征在于所述背面制绒形貌结构为平台形绒面,各平台结构分散,或者,平铺,或者,部分分散、部分平铺、部分相连、部分交叠地分布在硅衬底上,平台结构具有与硅衬底相连接的下平面及下平面相对的上平面,下平面的尺寸大于上平面;上平面的边长为2至10μm,平台结构的高度为1至8μm。本发明还公开了一种单晶硅双面太阳电池的制备方法。本发明可优化双面太阳电池的少数载流子表面复合和光学吸收特性,提高量子转换效率。 | ||
搜索关键词: | 单晶硅 双面 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
单晶硅双面太阳电池,在单晶硅衬底(100)的正面依次形成正面制绒形貌结构(1)、正面PN发射结(2)、正面钝化减反介质层(3)以及正面电极(4),在单晶硅衬底的背面依次形成背面制绒形貌结构(5)、背表面场(6)、背面钝化减反介质层(7)以及背面电极(8),其特征在于:所述背面制绒形貌结构(5)为平台形绒面,各平台结构(5a)分散,或者,平铺,或者,部分分散、部分平铺、部分相连、部分交叠地分布在硅衬底上;所述平台结构(5a)具有与硅衬底(100)相连接的下平面及下平面相对的上平面,下平面的尺寸大于上平面;所述上平面的边长为2至10μm,平台结构(5a)的高度为1至8μm。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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